
四氟甲烷
【用途一】
用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体及制冷剂
用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体及制冷剂
【用途二】
用于致冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。也用于制作低温液体压力计或作为惰性气体,或用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺和激光气体。
用于致冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。也用于制作低温液体压力计或作为惰性气体,或用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺和激光气体。
产品名称
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中文名四氟甲烷
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英文名tetrafluoromethane
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中文别名四氟化碳
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英文别名
Tetrafluor-methan Tetrafluorkohlenstoff Methane,tetrafluoro Tetrafluorocarbon perfluorocarbon Freon 14 Refrigerant 14 Perfluoromethane Carbon fluoride MFCD00000371 CARBON TETRAFLUORIDE Fluorocarbon 14 Halon 14 EINECS 200-896-5 -
常用名四氟甲烷
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C A S号75-73-0
物理性质
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密度3.04 (vs air)
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沸点−130 °C(lit.)
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熔点−184 °C(lit.)
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化学式CF4
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结构式
1、摩尔折射率:7.3
2、摩尔体积(cm3/mol):66.8
3、等张比容(90.2K):105.0
4、表面张力(dyne/cm):6.0
5、介电常数:无可用
6、偶极距(10-24cm3):无可用
7、极化率:2.89
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闪点N/A
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分子量88.00430
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精确质量87.99360
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P S A
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外观形状无色气体
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储存条件
储存注意事项储存于阴凉、通风的不燃气体专用库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。应与易(可)燃物、氧化剂分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。
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稳定性
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水溶解性
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形态
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H L B值
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粘度
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PH值
作用/用途
【用途一】
用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体及制冷剂
用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺,也用作激光气体及制冷剂
【用途二】
用于致冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。也用于制作低温液体压力计或作为惰性气体,或用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺和激光气体。
用于致冷剂、溶剂、润滑剂、绝缘材料、红外检波管的冷却剂。也用于制作低温液体压力计或作为惰性气体,或用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺和激光气体。
制备方法
1.由碳与氟反应,或一氧化碳与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,或二氟二氯甲烷与氟化氢反应,或四氯化碳与氟化银反应,或四氯化碳与氟化氢反应,都能生成四氟化碳。四氯化碳与氟化氢的反应在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,最后经精馏而得成品。
2.预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉,置于镍盘中,使硅和碳化硅充分接触后,将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中,向反应管内通入氟气,氟气先和单质硅反应,反应放热后,氟开始和碳化硅进行反应,通入等体积的干燥氮气以稀释氟气,使反应继续进行,生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝,然后慢慢地气化后,将其通过装有氢氧化钠溶液的洗气瓶除去四氟化硅,随后通过硅胶和五氧化二磷干燥塔得到最终产品。
3.以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中,缓缓通入高浓氟气,并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。产品经除尘,碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去O2、N2、H2,得到高纯CF4。
安全提醒
MSDS
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原料简介
应用范围
毒性和生态
安全信息
符号 |
![]() GHS04 |
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信号词 | Warning |
危害声明 | H280 |
警示性声明 | P410 + P403 |
个人防护装备 | Eyeshields;Gloves;half-mask respirator (US);multi-purpose combination respirator cartridge (US) |
危害码 (欧洲) | F |
安全声明 (欧洲) | S38 |
危险品运输编码 | UN 1982 2.2 |
WGK德国 | 3 |
RTECS号 | FG4920000 |
危险类别 | 2.2 |
是否危险品
危险性
危险类别码
危险等级
触发危险方式
安全技术说明书
环境影响程度
包装与储运
相关供应商