
氧化铟
【用途一】
用作光谱纯试剂和电子元件的材料等
用作光谱纯试剂和电子元件的材料等
【用途二】
主要用于作电池原材料 ,荧光屏,玻璃,陶瓷,化学试剂等。
主要用于作电池原材料 ,荧光屏,玻璃,陶瓷,化学试剂等。
产品名称
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中文名氧化铟/纳米氧化铟
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英文名Indium Oxide
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中文别名氧化铟(III) | 纳米氧化铟 | 三氧化二铟 | 氧化铟
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英文别名
Diindium trioxide,Indium sesquioxide,Indium(III) oxide Indium(III) oxide MFCD00011060 EINECS 215-193-9 Diindium trioxide,Indium sesquioxide Diindium trioxide Indium sesquioxide Indium oxide -
常用名氧化铟
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C A S号1312-43-2
物理性质
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密度7.18
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沸点850ºC
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熔点2000ºC
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化学式In2O3
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结构式
1、摩尔折射率:无可用的
2、摩尔体积(cm3/mol):无可用的
3、等张比容(90.2K):无可用的
4、表面张力(dyne/cm):无可用的
5、介电常数:无可用的
6、极化率(10-24cm3):无可用的
7、单一同位素质量:277.7925 Da
8、标称质量:278 Da
9、平均质量:277.6342 Da
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闪点N/A
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分子量277.634
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精确质量277.792511
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P S A43.37000
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外观形状白色至淡黄色粉末
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储存条件
保持贮藏器密封、储存在阴凉、干燥的地方,确保工作间有良好的通风或排气装置
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稳定性
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水溶解性
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形态
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H L B值
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粘度
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PH值
作用/用途
【用途一】
用作光谱纯试剂和电子元件的材料等
用作光谱纯试剂和电子元件的材料等
【用途二】
主要用于作电池原材料 ,荧光屏,玻璃,陶瓷,化学试剂等。
主要用于作电池原材料 ,荧光屏,玻璃,陶瓷,化学试剂等。
制备方法
1.将高纯金属铟在空气中燃烧或将碳酸铟煅烧生成In2O、InO、In2O3,精细控制还原条件可制得高纯In2O3。也可用喷雾燃烧工艺制得平均粒径为20nm的三氧化二铟陶瓷粉。
3.将氢氧化铟灼烧制备三氧化二铟时,温度过高的话,In2O3有热分解的可能性,若温度过低则难以完全脱水,而且生成的氧化物具有吸湿性,因此,加热温度和时间是重要的因素。另外,因为In2O3容易被还原,所以必须经常保持在氧化气氛中。
3.将氢氧化铟在空气中,于850℃灼烧至恒重,生成In2O3,再在空气中于1000℃加热30min。其他硝酸铟、碳酸铟、硫酸铟在空气中灼烧也可以制得三氧化二铟。
安全提醒
MSDS
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原料简介
应用范围
毒性和生态
安全信息
个人防护装备 | dust mask type N95 (US);Eyeshields;Gloves |
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危害码 (欧洲) | Xi: Irritant; |
风险声明 (欧洲) | R36/37/38 |
安全声明 (欧洲) | 26-36 |
危险品运输编码 | UN1993 |
WGK德国 | 3 |
RTECS号 | NL1770000 |
包装等级 | II |
是否危险品
危险性
危险类别码
危险等级
触发危险方式
安全技术说明书
环境影响程度
包装与储运
相关供应商