【科技】高效环保三唑衍生物缓蚀剂助力半导体CMP工艺绿色低碳转型

本研究团队聚焦 1,2,4 - 三唑衍生物，系统探究了 3-氨基-1,2,4-三唑（ATA）、3-巯基-1,2,4-三唑（MT）和 3-氨基-5-巯基 1,2,4-三唑（AMTA）三种抑制剂的缓蚀性能。电化学测试表明，10mM 浓度的ATA 缓蚀效率高达92.7%，远超MT（89.9%，20mM）与 AMTA（83.7%，20mM），且三者均为以阳极抑制为主的混合型缓蚀剂，解决了抛光液中的过氧化氢易引发铜的过度腐蚀、传统缓蚀剂存在环保性差、后清洗困难等问题。

双氧水型铜材抛光液使用与启示

本款产品属于双氧水型铜材抛光液， 除锈力超强：传统强酸型除锈剂在除锈后往往会在金属表面形成界面，留下痕迹；本产品为弱酸性，内含非常有效的特种表面活性剂，可快速将氧化锈斑从工件上均匀剥离出来，不会留下痕迹，使工件光亮如初。使用方式简便：常温浸泡，对水的适应性强，使用方便。除锈彻底：良好的润湿分散性，极易漂洗，在自然干燥下在工件表面不会形成残留。