【科技】高效环保三唑衍生物缓蚀剂助力半导体CMP工艺绿色低碳转型

本研究团队聚焦 1,2,4 - 三唑衍生物，系统探究了 3-氨基-1,2,4-三唑（ATA）、3-巯基-1,2,4-三唑（MT）和 3-氨基-5-巯基 1,2,4-三唑（AMTA）三种抑制剂的缓蚀性能。电化学测试表明，10mM 浓度的ATA 缓蚀效率高达92.7%，远超MT（89.9%，20mM）与 AMTA（83.7%，20mM），且三者均为以阳极抑制为主的混合型缓蚀剂，解决了抛光液中的过氧化氢易引发铜的过度腐蚀、传统缓蚀剂存在环保性差、后清洗困难等问题。

铜化学抛光液中双氧水的稳定剂与抑制剂研究

浅谈黄铜紫铜化学抛光液的选择

黄铜和紫铜是两种常见的铜材，在使用铜材抛光液时需要注意以下几点：黄铜的使用方法：准备工作：首先，将黄铜表面的油污、灰尘等杂质清除干净，可以使用清洗剂或温和的洗涤剂进行清洗，然后用清水冲洗干净并擦干。选择合适的抛光液：根据

紫铜，黄铜抛光液

紫铜，黄铜抛光液，不含铬，快速出光，抛光液稳定，耐用性好，所用原料非中间体。线上使用的成熟配方。

铝合金电解抛光液配方研究

化学抛光技术简介及应用

一种钯和铜化学抛光液及其制备方法和使用方法研究

该抛光液由研磨颗粒、氧化剂、pH调节剂及添加剂组成，成分配比和操作条件共同作用于金属表面的氧化-机械削除过程。本抛光液兼具高抛光速率、低表面粗糙度、强材料适应性特性，优化后的稳定性与可控性有效解决传统金属抛光中的过度腐蚀

不锈钢电解抛光液中硫酸与磷酸的协同作用

抛光技术

电解抛光液配方