分享一种半导体工业用清洗剂配方

小飞机

2023-04-26 09:39

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半导体工业清洗剂的市场前景广阔，以下为该产品的配方和生产过程。

原料配伍：本清洗剂各组分质量份配比范围为：

壬基酚聚氧乙烯醚3～5，

脂肪醇聚氧乙烯醚4～6，

N，N-二羟乙基十三酰胺或十二烷基醇酰胺磷酸酯钠3～5，

三聚磷酸钠2～4，

异丙醇或乙醇胺0～5，

乙0～10，

溶剂油或煤油0--85，

去离子水加至100。

所用原料中，壬基酚聚氧乙烯醚及脂肪醇聚氧乙烯醚为无色透明油状液体，N，N一二羟乙基十三酰胺和十二烷基醇酰胺磷酸酯钠为黄棕色透明油状液体，这些表面活性剂完全溶于水，不燃、不爆，易生物降解，是清洗剂的主要成分。助剂三聚磷酸钠是清洗剂配方中最重要的无机助剂，产品呈白色颗粒或粉末状，溶于水。三聚磷酸钠本身具有表面活性剂的一般特性，对固体颗粒有很强的分散力和悬浮力，还有乳化和稳定乳化的作用，在去除油垢方面有良好的效果，可防止污垢再沉积，提高清洗去污力。所述溶剂油以200#溶剂油为佳，该溶剂油与煤油一样对黑蜡、松香和石蜡的混合物有很强的溶解能力。
产品应用：本清洗剂主要用于半导体硅片表面上黑蜡、松香和石蜡混合物的清洗。当用该清洗剂清洗表面涂有黑蜡、松香和石蜡混合物的硅片时，应直接使用原液，用超声波清洗机进行清洗(该原液可多次重复使用)，然后用去离子水冲洗。

当用该清洗剂清洗表面沾有少量黑蜡、松香和石蜡混合物的硅片时，可用5％～10％的比例与去离子水混合配制成乳剂，用超声波清洗机进行清洗或者用电炉煮沸，然后用去离子水冲洗。

产品特性：本品可代替甲苯、二甲苯、三氯乙烯、二氯甲烷及其他有毒的有机溶剂清洗黑蜡、松香和石蜡混合物，且具有无毒、无腐蚀性的优点，不含有氟、氯等卤族元素的化学物质，不会对高空臭氧层造成破坏；该清洗剂具有良好的稳定性，可长期存放。

关键词：清洗剂、半导体

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