针对硅片硅粉的清洗，选取众多表活进行测试，最终认为FAS-1阴离子表面活性剂在对硅片有强去污力、低泡的同时，亦具有较高的性价比，可用于硅片清洗中极大提高对硅粉的清洗力。

1.硅片清洗测试

按硅片常规清洗剂配比配制清洗剂A，并在A基础上复配适量FAS-1配制清洗剂B，在相同测试条件下清洗，结果如图1所示。清洗剂A清洗力较差，硅片残留大量硅粉，而复配FAS-1的清洗剂B将硅粉完全清洗干净，说明FAS-1对硅粉有较强的去除力，提升效果明显。

图 1 硅片清洗测试结果

2.泡沫测试

硅片清洗剂若有丰富的泡沫会导致硅片漂洗不干净，增加漂洗次数，浪费更多的水及能耗资源。

按照相同活性物浓度，对FAS-1、NP-10、FMES测试发泡性能，具体数据参考图2。FAS-1具有更低的泡沫，比常规非离子表活NP-10的泡沫更低。因此，FAS-1非常适用于硅片清洗中。

图 2 FAS-1的泡沫对比图

3.小结

FAS-1 BP-8237非常适用于硅片清洗剂中对硅片硅粉、灰尘的清洗，去污效果显著，并具有低泡沫特点、性价比高。