【专利】万华化学获得发明专利授权：“一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用”

时间：2026-04-22 10:23 | 说化有益

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本发明公开了一种宽去除速率选择比的抛光组合物及其应用，所述抛光组合物以表面固定有有机酸的纳米二氧化硅胶体为主要抛光组分，并添加含有椰油基的疏水性表面活性剂和聚氧乙烯?聚氧丙烯亲水性共聚物作为选择比调节剂，还添加有由丙烯酸单体聚合形成的重均分子量约1000～200000的丙烯酸均聚物及其盐以及丙烯酸共聚物。本发明的抛光组合物包括由两种表面活性剂组成的选择比抑制剂和水溶性聚合物，绿色低毒，能够实现更宽的氮化硅、氧化硅对多晶硅材料的抛光选择性，同时也能有效地抑制抛光缺陷的产生。

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